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GSL-CKJS-560-B2磁控溅射
GSL-CKJS-560-B2磁控溅射图片
型号: GSL-CKJS-560-B2
产地: 广东
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型号: GSL-CKJS-560-B2
产地: 广东
半岛bd体育手机客户端 介绍

高真空溅射可用于金属、半导体、绝缘体等多种新型薄膜材料的制备,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,可广泛用于大专、科研院所的薄膜材料研究、制备。

半岛bd体育手机客户端 型号

GSL-CKJS-560-B2磁控溅射

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)

2、电:AC380V 50Hz,必须有良好接地

3、气:设备腔室内需充注氮/氩气(纯度99.99%以上),需自备氮/氩气气瓶(自带?10mm双卡套接头)及减压阀

4、场地:设备尺寸3500×1600mm,承重1000kg以上

5、通风装置:需要

主要特点

1、真空度高。

2、可制备多种薄膜,金属、半导体、绝缘体等,应用广泛。

3、体积小,操作简便。

4、清理安装便捷。

5、控制可选一体化触摸屏控制。

技术参数

1、主溅射室尺寸:?560×355mm梨形真空室

2、主溅射室真空度:5×10-6Pa

3、进样室尺寸: ?255×430mm

4、进样室真空度:5×10-4Pa

5、永磁靶5套,靶材尺寸φ2″,各靶射频与直流溅射兼容(其中1个靶可溅射铁磁材料)

6、公转样品台6个工位,5个水冷工位,1个加热工位,加热工位最高温度 600℃±1℃

7、样品尺寸:φ1″,可放置6片

8、基片可加-200V负偏压

9、进样室可一次性安装6片样品,可对被镀样品进行退火处理,退火温度 800℃±1℃

10、进样室可对基片进行反溅清洗

11、进样室和主溅射室之间通过磁力样品机构进行样品传递

半岛bd体育手机客户端 规格

整机尺寸:2700×900mm×2000mm。

标准配件

1

电源控制系统

1套

2

真空获得系统

1套

3

真空测量装置

1套

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