镍蚀刻剂TFB是适用于蒸发镍薄膜上的标准镍蚀刻剂。这种蚀刻剂与阳性和阴性光刻胶都有良好的匹配性。它用于氧化铝基板上，是金、镍、镍铬或铬电阻的理想蚀刻剂。

镍蚀刻剂TFB是高纯硝酸盐基蚀刻剂用于蚀刻蒸发或电镀镍膜，镍蚀刻剂与阴、阳性光刻胶材料都具有良好匹配性。镍蚀剂用于蚀刻金、镍、镍铬膜以制作电阻板。

特点：

·廉价经济

·与阳性、阴性光刻胶都相匹配

·线条轮廓清晰

·蚀刻速率均匀

性质：

蚀刻剂	TFB
操作温度	25℃
蚀刻速率	30 ? /秒
镍沉积法	蒸发/阴极溅镀
蚀刻能力	270g/加仑
典型膜厚	1500 ? /5-50微英寸
罐	玻璃/塑料