Model 1061 SEM Mill 离子束切割抛光系统
SEM Mill 作为采用尖端技术制造的离子束切割抛光系统，提供可靠、高性能的样品制备能力，能够在最短时间内解决各类扫描电镜制样问题，同时具备紧凑、精确以 及高稳定性的优点。

主要性能特点：

•超宽加速电压范围：100eV到10kV，不同加速电压下，
•离子束束斑均保持最细**束斑状态
•每支离子枪均配备对应法拉第杯进行离子束直接探测
•采用可调

简洁
•配备横     截面切割装载及定位工具
•配备磁编码器，带有样品测厚  功能，自动匹配**抛光位置，保证***抛光质量和效率
•抛光角度范围：0°到 +10°连续可调
•具备原位实时观察及记录抛光过程功能
•可通过时间或温度自动停止
•可选液氮冷台配置，去除热效应对样品的损伤
•可选真空或惰性气体转移装置，隔绝样品与水氧接