GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪
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介绍
GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理(直流二极溅射镀膜是指在真空环境中利用粒子轰击靶材产生的溅射效应,使得靶材原子或分子从固体表面射出,在基片上沉积形成薄膜的过程。属于物理 气相沉积(PVD)制备薄膜技术的一种。)设计而成的简单、可靠、经济的镀膜设备。GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪特别之处是在一个真空室内安装了三个靶,旋转样品台可依次在同一样品上涂覆三种材料。因此,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。该设备体积小,节省实验室空间,操作简单,尤其适合实验室使用。
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质量
售后服务
易用性
性价比
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