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SKCC-GZB-X高真空磁控溅射永磁靶头(公,自旋转靶头)
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介绍 SKCC-GZB-X高真空磁控溅射永磁靶头(公、自旋转靶头)适用靶材种类较广,如金属/绝缘靶或磁性/非磁性靶材。配装有环形永磁体在靶头上,以保证溅射镀膜的效率和均匀性。可与DC或RF电源配合使用。
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