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简介:开启式单温区低真空CVD系统OTF-1200X-F3LV是由开启式单温区管式炉、机械泵、三通道浮子混气系统组成,可为CVD或扩散实验提供1-3种的混合气体,真空度可达10-2torr。
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型号 | 开启式单温区低真空CVD系统OTF-1200X-F3LV |
安装条件 | 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:不需要 2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地 3、气:设备腔室内需充注气体,需自备气瓶气源 4、工作台:尺寸600mm×600mm×700mm,承重150kg以上 5、通风装置:需要 |
主要特点 | 1、双层壳体,配有循环风冷系统,壳体温度<60℃。 2、内炉膛表面涂有美国进口氧化铝涂层,可以提高加热效率,同时延长使用寿命。 3、采用PID控制器 ,可以设置30段升降温程序。 4、设有超温及断偶报警功能。 5、已通过CE认证。 |
技术参数 | 1、电源:AC 220V 50/60Hz 2.5KW 2、石英管:外径Ø80mm,内径Ø75mm,长1000mm 3、加热元件:掺钼铁铬铝合金电阻丝 4、加热区域:440mm 5、恒温区域:150mm 6、工作温度:最高1200℃,连续工作1100℃ 7、最大升降温速率:20℃/min 8、控温精度:±1℃ 9、真空度:5.5×10-3torr(机械泵),10-4torr(分子泵) 10、泄漏率:<5mtorr> 11、浮子流量计:3个;10ml/min-100ml/min,16ml/min-160ml/min,25ml/min-250ml/min 12、压力表:4个 |
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规格 | 尺寸:管式炉550mm×380mm×520mm,混气系统600mm×600mm×597mm;重量:60kg |