VTC-200P真空旋转涂膜机,匀胶机
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VTC-200P真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。VTC-200P真空旋转涂膜机腔体不可抽真空,工作时利用真空盘吸附的方式将样品固定在载样盘上,该设备可储存12组程序,每组程序包含6个运行阶段。不同运行阶段设备转数不同,使设备缓慢提升速度至极限速度,有利于薄膜材料在样品表面均匀成膜,且不会过多浪费,节约材料。腔室的上盖可以对样品进行加热(可选功能),有利于粘稠度大的薄膜材料的涂覆过程的进行。VTC-200P真空旋转涂膜机具有操作简单、清理方便,体积小巧等优点,主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。
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