主要特点：本磨抛机为双盘双控制台式机，适用于对试样的粗磨、精磨和抛光操作，可同时供两人工作。本机采用微处理系统，双盘都可单独直接获得50-1000转/分钟之间的转速和150与300转/分钟的两级定速，从而使本机具有更广泛的应用性，本机具有冷却装置，可以在研磨抛光的同时对试样进行冷却，以防止因试样过热而破坏金相组织。该机使用方便、安全可靠，是工厂、科研单位以及大专院校实验室的理想制样设备。

主要技术规格：