VTC-200S桌面型真空金属甩带炉
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VTC-200S是一款桌面型真空金属甩带炉,用于制备非晶金属带。此工艺过程中,金属块(<20g)通过感应加热的方式融化,然后通过气压被挤出坩埚。熔融态的金属流喷到快速转动的铜轮上,达到快速淬火&凝固,可得到非晶或微晶金属带(宽度< 10 mm)。此套系统安装于不锈钢腔体中,不锈钢箱体上有一个观察窗口。腔体可对真空泵,并且可通入气体。可确保甩带过程在无水和无氧的化境下进行。用户可调节铜轮的转速,电源的加热功率,温度和坩埚内的气压。
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