1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD
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1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD主要适用于我公司制造的VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪、VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪,该磁控溅射头可安装直径为1"的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配,因此可溅射各种靶材,如金属靶材(如金、银、铜等材料)、绝缘靶材(如陶瓷靶材、氧化物靶材、聚四氟乙烯靶材等)、磁性靶材、非磁性靶材等。且采用高真空的结构设计,可提高镀膜质量。1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD配装有环形NdFeB永磁体在溅射头上,以保证溅射镀膜的效率和薄膜在样品表面分布的均匀性。
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