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高真空PECVD系统

主要特点

1、系统采用单室方箱式结构，手动前开门；

2、真空室组件及配备零部件全部采用优质不锈钢材料制造（304），氩弧焊接，表面采用喷玻璃丸+电化学抛光钝化处理配有可视观察窗口，并带挡板，真空尺寸为300mm×300×280mm；

3、采用样品在下，喷淋头在上喷淋式进气方式

4、气路设有匀气系统，真空室内设有保证抽气均匀性抽气装置

5、系统设有硅烷尾气处理系统(高温裂解方式)。

技术参数

1、停泵关机12小时后真空度：≤5 Pa；

2、样品加热最高加热温度：300℃，温控精度：±1℃，采用日本进口控温表进行控温；

3、喷淋头尺寸：200×200mm，喷淋头与样品之间电极间距20-80mm连续可调，并带有标尺指数显示，采用金属焊接波纹管+进口直线导轨+进口丝杠+进口光轴方式，升降平稳、无抖动，保证了电极与样品的平行度；

4、 沉积工作真空：13-1300Pa；

5、射频电源：频率 13.56MHz，最大功率500W，全自动匹配；

6、SiH4、NH3、N2O、N2、H2、Ar 6路气体，共计使用6个质量流量控制器控制进气。

标准配件

可选配件