高真空三温区CVD系统OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV
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高真空三温区CVD系统OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV是由九通道质量流量控制器和高真空机组组成的CVD系统,其炉管直径为4″,最高温度可达1200℃,极限真空可达 10-5torr,混气系统可对1-9种气体进行精确的混合,然后导入管式炉内部,可用来研究气体环境对材料的影响。
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