VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪
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VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪靶头尺寸为2英寸,样品台与溅射头之间的高度在30-80mm之间可以调节。安装有一可手动操作的溅射挡板,可进行预溅射。溅射头对样品的溅射时间在1-120s之间可调,若想获得薄的薄膜,溅射时间可以设置短一点;若想获得厚的薄膜,溅射时间可以长一点。VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪设计主要是制作一些金属薄膜,制膜面积可达到4英寸。设备外形小巧,性价比高,是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备,可选配各种金属靶材和真空泵搭配设备使用。
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