GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪
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GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极(DC)直流溅射原理(二极溅射镀膜是指在真空环境中利用粒子轰击靶材产生的溅射效应,使得靶材原子或分子从固体表面射出,在基片上沉积形成薄膜的过程。属于物理气相沉积(PVD)制备薄膜技术的一种。)设计而成的简单、可靠、经济的镀膜设备,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪可用于实验室制备扫描电镜样品使用,且设备体积小巧,节约实验室空间;操作简单,适合初学人员使用。
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