产品用逓/strong>
PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜、/p>
PECVD系统配置：/strong>
1.1200度开启式滑动单温区真空管式炉
2.等离子射频电溏/p>
3.多路质量流量控制系统
4.真空系统（单独购买）
产品特?/strong>;
电源范围广；温度范围宽；溅射区域长；整管可调；精致小巧，性价比高，可实现快速升降温，是实验室生长薄膜石墨烯，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等的理想选择，也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用、/p>
| 系统名称 |
集成垊/strong>PECVD系统 |
1200℃小垊/strong>PECVD系统 |
| 系统型号 |
PECVD-12IH-500A |
PECVD-12IH-4Z/G |
| 控制方式 |
液晶屏微PLC控制系统 |
手动 |
| 最高温?/strong> |
1200ℂ/td> |
| 加热区长?/strong> |
200mm |
| 恒温区长?/strong> |
100mm |
| 温区 |
单温匹/td> |
| 石英管管徃/strong> |
60mm |
50mm |
| 额定功率 |
1.2Kw |
2Kw |
| 额定电压 |
220V |
| 滑动方式及距禺/strong> |
自动滑动;200mm |
手动滑动;200mm |
| 温度控制 |
30段程序控?/td> |
50段程序控?/td> |
| 控制精度 |
1ℂ/td> |
| 炉管最高工作温?/strong> |
?200ℂ/td> |
| 气路法兰 |
采用多环密封技术卡箍快速连?/td> |
| 排风冷却装置 |
先进的空气隔热技术，结合热感应技术，当炉体表面温升到50℃时＋br />排温风扇将自动启动，使炉体表面快速降温、/td> |
| 气体控制方式 |
质量流量计（按键式） |
| 气路数量 |
2路（2-4路） |
4路（可根据具体需要选配气路数量（/td> |
| 流量范围 |
0-500sccm(标准毫升/分，可选配）氮气标宙/td> |
| 精度 |
1%F.S |
| 响应时间 |
1sec |
| 工作温度（流量计（/strong> |
20-120ℂ/td> |
| 工作压力 |
进气压力0.05-0.3Mpa(表压力） |
| 进气方式 |
采用防倒流设计 |
| 规格 |
中真空（集成型请单独购买（/strong> |
| 系统真空范围 |
10Pa-100Pa |
| 真空泴/strong> |
双级机械泵理论极限真空度3x10-1Pa，抽气速率4L/S（选配：其他抽速真空泵?出气口配有油污过滤器，额定电?20V，功?.55Kw |
| 信号频率 |
13.56MHz0.005% |
| 功率输出范围 |
0W-500W |
0W-100W |
| 最大反射功玆/strong> |
350W |
30W |
| 射频输出接口 |
50，N-type,temale |
| 功率稳定?/strong> |
0.1% |
| 谐波分量 |
?50dbc |
| 供电电压 |
单相交流?87V-253V)频率50/60HZ |
| 整机功率 |
?0% |
| 屏幕显示 |
正方向功率，匹配器电容位置，偏置电压倻/td> |
| 炉体外形尺寸 |
290350340mm |
290350495mm |
| 系统外形尺寸 |
42014401100mm |
5302310750mm |
| 系统总重野/strong> |
270Kg |
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