1200度真空井式坩埚电炉
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1200度真空井式坩埚炉是由石英坩埚或者氧化炉坩埚,和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。工作温度区间800℃至1200℃。该系列设备的控制系统国际××,具有安全可靠,操作简单,控温精度高,保温效果好,炉膛温度均匀性高,可通气氛抽真空等特点,广泛应用于高等院校,科研院所,工矿企业等实验和小批量生产。真空井式坩埚炉以进口含钼电阻丝或者硅碳棒为加热元件,采用双层壳体结构和智能化程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,具有真空装置,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。 主要用途: 高校、科研院所、工矿企业主要用于煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物,退火或扩散半导体晶片,也可以用于烘烧或烧结陶瓷材料等。 详细参数
以上数据仅供参考,炉膛尺寸可根据客户要求定制,外形尺寸如有更改,恕不另行通知!
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