嘉仪通晶化快速退火炉RTP-3-S01系列采用红外辐射加热技术，可实现1吋(选配2吋)样品快速升温和降温，同时搭配超高精度温度控制系统，可达到**的温场均匀性，对薄膜材料进行晶化快速退火处理，提高薄膜材料的均匀性及稳定性。

晶化快速退火炉半岛bd体育手机客户端 特点：

快速加热和降温: 最高可控升温速率可达50 ℃/s，特定条件下可以达到100 ℃/s。冷壁水冷设计能够达到较大的降温速率，特定条件下可达30 ℃/s。

精确控温: 采用工业级温控器进行PID精确控温，目标温度与设定温度曲线一致性高，可实现室温至1200 ℃的温度精确控制。

适应多种工艺环境: 满足多种工艺气氛下的热处理（氮气、氩气等）。同时，通过选配真空泵，可以在真空条件下进行退火，最高真空度可达10^-3Pa。

配备观察窗口: 通过观察窗口，可以实时观察热处理过程中的样品变化。同时，可以结合相关测试方法进行原位测试分析。

超高安全系数: 采用炉壁超温报警系统和冷却水流量报警系统，全方位保障半岛游戏平台官网入口网址 使用安全。

国产退火炉：拥有自主研发技术和制造能力，能快速反应客户售后需求。

晶化快速退火炉技术参数：

型号	RTP-3-S01系列
最高温度	1200℃
最大升温速率	50℃/s
温度均匀性	≦1%设定温度
温度控制	选用工业级温控器，控温精度±0.1℃
温度传感器	标准K型热电偶
最大降温速率	1200℃→400℃，200℃/min 400℃→100℃，20℃/min （自然冷却）
最大样品尺寸	W20 x L20 x T2 (mm)
主机尺寸	W420X L320X H220 (mm)
主机重量	20.5kg

晶化快速退火炉客户案例：

清华大学使用嘉仪通1吋晶化快速退火炉给HfO₂薄膜做晶化退火，得到晶相一致晶粒较小的晶体，提高薄膜材料的均匀性及稳定性。