通过产生185nm和254nm高强度UV光分解有机分子（污染物）。185nm的光可以将氧分子O₂转变成活性的O₃臭氧分子。254nm的光同时激发表面的有机分子，使其更容易被臭氧分子吸收并分解。臭氧分子存在时间短并且同时也被254nm光分解，样品台可以调节样品到灯管的距离来优化性能。被分解的有机污染物以CO₂和H₂O蒸气的形式释放，同时臭氧分子转变成氧分子。

1、在LCD、OLED生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗，可以极大的提高基体表面润湿性，增强基体表面的粘合力；
大规模集成电路的密度越来越高，晶格的微细化越来越密，要求表面的洁净度越来越高，光清洗可以有效地实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤;
2、在半导体生产中，硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗，可以提高粘合力，防止针孔、裂缝的发生。光学玻璃经过紫外光清洗后，镀膜质量更好;
3、清洗机常用于扫描探测显微镜的样品应用，能用于清洗原子力显微镜探针，扫描探针显微镜标准和表面上常规的油渍层和残留的无机材料，也能用来改变物体表面的疏水性，有助于部件和表面的化学改性，经过氧化和硬化处理的探针有利于在扫描过程中保持探针的几何形状，削尖的探针有利于提高侧向分辨率。